【光刻机领域，中国再下一城】不黑不吹，新公布的光刻机是干式DUV光刻机，参数中规中矩，对应阿斯麦尔的ArF系列光刻机。8nm的套刻精度并不是指能生产8nm工艺，这种光刻机一般只能用于制造65nm工艺的芯片，理论上通过多次曝光可以用于制造32/40nm的工艺（只不过当年没有人这样做，而是直接进入了浸润光刻时代）。 如果该光刻机的供应链可控，那么我国工业用芯片基本就不再害怕任何制裁了，而且DUV光刻机的原理一旦掌握，浸润式DUV也就指日可待了……同时，芯片制造的其他配套设备已经全部达到或优于28n